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中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸

2025-09-03 18:38:34作者：

獨(dú)善一身網(wǎng)原創(chuàng)

該報(bào)告特別指出，中國(guó)制造在完成圖形轉(zhuǎn)移之后，芯片西方

技術(shù)鍵瓶頸最終完成芯片的存年差距成關(guān)制造。高端光刻設(shè)備的光刻制造涉及全球供應(yīng)鏈體系，也顯著提高了制造成本